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学术交流 | NOM研究组成员赴日本参加ICSE-VI国际会议

作者:时间:2013-06-06阅读量:
  

2013年5月25至5月31日,NOM研究组博士生朱金龙在刘世元教授和张传维讲师的带领下赴日本京都市参加了第六届国际光谱椭偏会议(ICSE-VI)。

会议期间,朱金龙以口头报告的形式展示了自己的最新研究成果“In-chip dimensional metrology of T-type phase change random access memory by Mueller matrix polarimetry”,主要讨论了穆勒矩阵偏振仪在T型相变存储器的in-chip测量上运用的可行性。张传维讲师以墙报的形式展示了NOM组的其他两项最新研究成果:“Formulation of error propagation and estimation in grating reconstruction by a dual-rotating compensator Mueller matrix polarimeter”,给出了在基于双旋转补偿器型广义椭偏仪的光栅重构中随机误差和系统误差的传播与估计方法;“Determination of an optimal measurement configuration in optical scatterometry using global sensitivity analysis”,提出了一种基于全局灵敏度分析的测量条件优化配置方法。

这三项研究成果得到了J. A. Woollam、HORIBA等知名公司和美国橡树岭国家实验室(Oak Ridge National Laboratory) Jellison博士、法国巴黎综合理工(Ecole Polytechnique) Foldyna博士、美国国家标准技术研究所(NIST) Germer博士等众多同行的广泛关注与兴趣。与会期间,NOM小组成员认真听取了大会各分会场的报告及发言,结识了来自各国的椭偏仪研究及应用领域同行,深入探讨了今后可能的学术合作机会。

本届ICSE-VI大会热烈讨论了椭偏仪技术的研究以及在太阳能、生物、纳米结构测量等众多领域中的应用成果与前景,会议的一系列研究成果与轻松友好的氛围给所有与会者留下了深刻的印象。


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