学术交流

当前位置: 网站首页 - 新闻列表 - 学术交流 - 正文

学术交流 | NOM组成员赴意大利比萨参加第三届应用表面科学国际会议

作者:时间:2019-07-01阅读量:
  

2019年6月17日-20日,NOM研究组博士生宋宝坤、陈超、郭正峰和方明胜一行4人赴意大利比萨参加了第三届全国偏振与椭偏测量研讨会。会议主题涵盖:表面材料及涂层、二维材料、薄膜材料的光电设计与应用、同质结及异质结的性质研究等材料及物理领域的诸多前沿领域。该会议是继2017年于大连举办的第二届国际会议的又一次国际盛会。本次会议的主题与NOM组目前从事二维材料光电性质研究方向具有高度的相关性。二维材料以其原子级厚度、显著的量子禁锢效应、复杂的多体效应等奇特物化性质备受关注。本次会议上也有诸多专家学者对二维材料的光电性质进行广泛而深入的研究。



会上博士生宋宝坤做了题为“Complex optical conductivity of 2D TMDCs”的大会报告,并就报告中的样品制备、椭偏技术、二维材料的光电性质等内容与与会学者进行了深入讨论。



此外,陈超、郭正峰和方明胜也都分别以张贴海报的形式在会上展示了自己近期的研究工作。


  • 通讯地址:华中科技大学机械学院东楼B316
  • 邮政编码:430074
  • 联系电话:027 8755 9543
  • 中心邮箱:pirc@hust.edu.cn

2026 © Powered by Precision Instrument Research Center (PIRC). All Rights Reserved.