武汉光电国家实验室（筹）《光电动态》2009年11月9日第8期报道了NOM研究组博士生刘巍同学在波像差检测技术方面研究的研究进展。

该研究通过深入研究光刻机中的部分相干成像理论，提出一种基于二元光栅掩模标记的波像差在线检测新技术，采用制造工艺最为简易的二元光栅结构作为掩模标记，充分考虑部分相干照明的影响，可以实现高达37级Zernike系数的波像差在线精确检测，精测精度达到0.1mλ。相关研究成果发表在Optics Express上（2009, 17(21): 19278-19291）。

新闻报道链接http://www.wnlo.cn/article.php?catPath=0,1,12,13&catID=14&articleID=997

论文全文链接http://dx.doi.org/10.1364/OE.17.019278