NOM研究组马园硕士生和董正琼博士生于2010年12月3日至6日赴广州参加了2010年光电子与微纳光子进展国际会议(OSA-IEEE-COS Topical Meeting on Advances in Optoelectronics and Micro/nano-optics, AOM)，并分享了研究论文Sensitivity Analysis for Nanostructure Metrology by Mueller Matrix Polarimetry。该论文针对Mueller偏振测量法对纳米结构尺寸的灵敏度进行了分析。本次AOM2010国际会议由美国光学学会(OSA)、IEEE光电子学会、中国光学学会和广东省光子学会主办，华南师范大学承办，会议讨论了微纳米光学及光电子学的最新进展，特别是纳米结构材料、微纳米光学器件、系统以及太阳能光伏技术的应用。