2012年5月29日至6月2日，NOM研究组博士生龚朋、许爽在史铁林和刘世元两位教授的带领下赴美国夏威夷参加美国真空学会（American Vacuum Society）举办的2012年度电子束、离子束、光子束技术及纳米加工国际会议(EIPBN 2012)。

会议期间，龚朋以特邀墙报形式展示了自己的最新研究成果“Fast Aerial Image Simulation for Partially Coherent Systems by TCC Decomposition with Analytical Kernels”，提出了一种基于解析核函数的快速计算空间像的新方法。

许爽同学以墙报形式展示了自己的最新研究进展“Sensitivity Analysis for Lens Aberration Measurement in Lithographic Tools Using CTC-Based Quadratic Aberration Model”，在前期基于波像差检测二阶模型研究工作的基础上，进一步对掩膜的灵敏度进行了分析，实现了用于波像差检测掩膜参数的优化。

这两项研究成果引起了包括JM3主编Chris Mack博士等在内的众多同行的广泛关注与兴趣。