2011年12月17日上午9点，在机械学院先进制造大楼机电系C303会议室举行了NOM研究组张传维博士的博士后出站成果报告会。答辩委员会主席为湖北工业大学钟毓宁教授，委员包括吴懿平教授、李锡文教授、陈蓉教授、刘世元教授。

在吴懿平、史铁林和刘世元教授的悉心指导下，张传维博士在站研究以“套刻误差测量关键技术”课题研究为核心，系统研究了基于衍射光谱的IC结构套刻误差测量方法，并重点研究了套刻标记衍射光学特性建模、基于衍射光谱灵敏度分析的套刻标记结构优化设计、基于灵敏度分析的套刻误差参数提取等问题。

报告会期间张传维博士通过PPT方式对工作报告进行了详细的阐述，并对评审委员会提出的问题进行了较为准确的回答和解释，评审委员会针对张传维博士的研究成果进行了相应的探讨。之后举行内部会议，评审委员会对报告内容和论文评阅情况进行讨论，一致认为张传维博士在站期间的科研能力、学术水平、工作成果已满足学校博士后出站条件。评审委员会一致同意通过张传维博士的博士后出站工作报告评审。

特此祝贺张传维博士圆满完成博士后在站期间工作，并衷心希望他在以后的工作岗位中继续带领NOM研究组勇攀科研高峰，工作顺利！